Motif(s) Haute Couture

du 10 juillet 2000 au 27 août 2000

Motif(s) est né d’une initiative de Flavio Nervegna, agent de photographes indépendants. L’idée était de rassembler trente photographes, trente directeurs artistiques et graphistes, trente stylistes afin de créer autant d’images, hommages aux maisons Haute-Couture présentes lors des défilés à Paris.

Chacune de ces photographies est l’expression d’un regard extérieur, une tentative de saisir l’essence même de chaque Maison, sa beauté, ses couleurs, son univers, le rêve qu’elle tente chaque année de faire partager. Création spontanée, libérée de toute contrainte financière et de marketing , elle s’appréhende comme une vision personnelle, parfois décalée, mais toujours respectueuse de la marque. Artistes de l’ombre - photographes, directeurs artistiques, graphistes, stylistes, mannequins, coiffeurs, techniciens - participent à la magie de la création, révèlent une atmosphère et demeurent les acteurs d’une vision poétique du « chic parisien ».

Ces photographies, affichées en 4X3 dans tout le réseau du métro parisien pendant la semaine des défilés Haute Couture, sont exposées dans leur intégralité au musée de la Mode et du Textile à l’ Union Centrale des Arts décoratifs . Par cette exposition, le musée de la Mode et du Textile soutient la création contemporaine et rend hommage à cette énergie qui contribue à faire de Paris la capitale de la Mode.

L’Officiel de la Couture partenaire de cette manifestation publiera l’ensemble des photographies exposées, dans son numéro spécial Haute Couture de septembre 2000.

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